詳細信息
:
產(chǎn)品名稱:去離子水設備
去離子水設備應用范圍
1,、電子材料加工、單晶硅半導體,、半導體材料,、液晶顯示器,、計算機硬盤、印刷電路板,、集成電路,;
2、LCD,、EL,、PDP、TFT,、玻殼和顯像管,;
3、超純材料和超純化學劑導纖維和光盤,;
4,、汽車,、家電表面電泳漆清洗用水及其它高科技精密產(chǎn)品;
去離子水設備技術(shù)參數(shù)
機器型號:N 1-100T-DI
制 水 量:1-100 T/H
主要管徑:DN 32
工作壓力:≤1.0MPa
產(chǎn)水電阻率:18MΩ.cm,、15MΩ.cm,、10MΩ.cm、2MΩ.cm,、0.5MΩ.cm
進水水源:城市自來水
進水水溫:5-35℃
機器電源:380V/50HZ
進水TDS :≤300ppm
去離子水設備產(chǎn)品介紹
東莞水處理設備采用國際先進的反滲透裝置,,配套進口混合離子交換設備或EDI設備和紫外線滅菌器、精密過濾器,,出水水質(zhì)符合電子部超純水水質(zhì)標準(18MΩ.cm,、15MΩ.cm、10MΩ.cm,、2MΩ.cm,、0.5MΩ.cm五級),取代蒸餾水,,滿足大專院校,、科研機構(gòu)和工業(yè)企業(yè)的實驗、科研和生產(chǎn)對高純度純水的要求,。
該設備廣泛應用于電鍍工藝去離子水,、電池生產(chǎn)工藝用純水、汽車,、家用電器,、建材產(chǎn)品表面涂裝、清洗純水,、鍍膜玻璃用純水,、紡織印染工藝所需的除硬除鹽水系統(tǒng)。超純水設備制造技術(shù)的發(fā)展極大地推動了半導體和電子工業(yè)的技術(shù)發(fā)展,。
去離子水設備工藝說明
去離子水的工藝大致分成以下3種:
1,、離子交換樹脂制備去離子水的傳統(tǒng)水處理方式,其基本工藝流程為:
原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→陽床→陰床→混床→后置保安過濾器→用水點(特點:污染比較大,,自動化程度低,,初期投入低)
2、反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合制備去離子水的方式,,其基本工藝流程為:
原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→反滲透設備→混床→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點(特點:污染小,,自動化程度高,初期投入中等,,價格適中)
3,、反滲透設備與電去離子(EDI)設備進行搭配制備去離子水的的方式,這是一種制取超純水的最新工藝,也是一種環(huán)保,,經(jīng)濟,,發(fā)展?jié)摿薮蟮?strong style="padding:0px;margin:0px;">超純水設備工藝,其基本工藝流程為:
原水→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→反滲透設備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過濾器→用水點(特點:環(huán)保,,自動化程度高,,初期投入大,價格相對比較貴)
去離子水設備使用說明書
本設備發(fā)貨時隨設備發(fā)送一份說明書,,若您的說明書丟失,,請到公司網(wǎng)站下載相關(guān)說明書。下載說明書請點擊此處,,或登錄公司網(wǎng)站
設備全國保修2年,,終身保養(yǎng)